硫化铜靶材CuS磁控溅射靶材
2021-02-07 11:30
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价格:1000.00/片

品牌:晶迈中科

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 科研实验专用硫化铜靶材CuS磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
产品介绍
       硫化铜(CuS)是一种无机化合物,呈黑褐色,极难溶,是难溶的物质之一,因为它的难溶性使得一些看似不可以发生的反应能够发生。 对热不稳定,加热至220℃时分解为硫化亚铜和硫单质:有还原性,易被浓,稀硝酸,浓硫酸所氧化而溶解,在空气中也可以被氧气缓慢氧化,而在加热时可迅速被氧气氧化,用作分析试剂。
产品参数
中文名 硫化铜          化学式 CuS           相对分子质量 95.61
沸点 220℃               熔点 103℃           密度 4.6g/ml
物理性质
外观与性状:黑褐色无定形粉末或粒状物。
硫化铜化学分子结构式
熔点: 220℃(分解)
沸点:无意义。
溶解性:极难溶于水(25°C时Ksp为1.27×10-36) ,也难溶于硫化钠溶液和浓盐酸
支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 
服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!
产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 
质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 
加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!
 
       我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。
 
       注意:高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!
 
       建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2
联系方式
公司:北京晶迈中科材料技术有限公司
状态:离线
姓名:刘东(先生)
电话:4000903950
手机:13811695426
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地址:北京市通州区张家湾镇北大化村东2幢二层B2256
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