氧化铜靶材CuO磁控溅射靶材
2021-02-07 11:30
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价格:1000.00/片

品牌:晶迈中科

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 科研实验专用氧化铜靶材CuO磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
产品介绍
      氧化铜(CuO)是一种铜的黑色氧化物,稍有吸湿性。不溶于水和乙醇,溶于酸,氨溶液中缓慢溶解,能与强碱反应。氧化铜主要用于制人造丝、陶瓷、釉及搪瓷、电池、石油脱硫剂、杀虫剂,也供制氢、催化剂、绿色玻璃等用。
产品参数
中文名称:氧化铜
中文别名:氧化铜粉; 线状氧化铜; 纳米氧化铜;
英文名称:Cupric oxide
CAS号:1317-38-0
分子式:CuO
分子量:79.54540
精确质量:78.92450
PSA:17.07000
外观与性状:黑色结晶粉末
密度:6.315g/cm3
熔点:1326ºC
沸点:1026ºC (decomp)
折射率:2.63
纯度 99.9%
稳定性:稳定。 与还原剂,硫化氢,铝,碱金属,金属细粉末不相容。
储存条件:库房低温,通风,干燥,与食品原料分开存放
用途
气体分析中测定碳。有机反应催化剂。制造人造丝和其他铜化合物。光学玻璃发光剂。作为色料用于人造宝石、
有色玻璃、陶瓷釉彩
支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 
服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!
产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 
质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 
加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!
       我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。
       注意:高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!
       建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。
联系方式
公司:北京晶迈中科材料技术有限公司
状态:离线
姓名:刘东(先生)
电话:4000903950
手机:13811695426
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地址:北京市通州区张家湾镇北大化村东2幢二层B2256
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