Rolith公司展示了使用专利毫微光刻技术制造的ITO替代材料透明金属网格电极的出色性能

2013年8月12日，Rolith公司是高级纳米设备开发的领导者，日前宣布成功展示了采用破坏性毫微光刻方法（滚动掩模光刻 – RMLTM）的金属网格电极技术。

        我们看到用于消费电子市场的触摸显示屏出现了爆炸性增长。到目前为止，ITO（铟钛氧化物）材料是用于透明电极的标准解决方案。除了成本过高和材料供应有限之外，它还存在其他问题：这种材料的高反射率降低了对比率、光学性质极快降级至50 Ω/☐以下，从而限制了使用ITO生产而不使性能降级的显示屏大小。 

        ITO的唯一可行替代材料（和大型触摸显示屏的唯一解决方案）是金属线网格。对金属线网格的要求是人眼无法看到，这意味着线宽要小于2微米。此外，窄线有助于应对摩尔效应，金属线网格的叠加和显示屏的像素结构会造成这一效应。 

        Rolith公司采用了名为滚动掩模光刻 (RMLTM) 的专利毫微光刻技术，以制造用于大型基材的透明金属线网格电极。RML基于近场连续光学光刻，使用圆柱相掩模进行操作。 

        玻璃基材上的透明金属电极以亚微米宽纳米线的形式制造，以数十微米的间隔光刻到规则的2维网格图案，厚度为几百毫微米。经过检测，人眼无法看到此类金属结构，极为透明（超过94%的传递），雾度极低 (~2%)，同时电阻率低 (<14 Ohm/☐)。这组参数使得Rolith技术领先于ITO替代技术的所有主要竞争技术。 

        第2代RML工具能够制造最多1 m长的基材。今年早些时候制造的工具已被用于展示这一技术。

        “Rolith仅在几个月前推出其透明金属网格电极应用开发，我们对目前达到的结果感到非常兴奋。我们相信，我们的突破性技术将为移动设备和大格式显示屏、监视器和电视带来经济高效的高质量触摸屏。目前，Rolith正与一些触摸显示屏制造商讨论有关合作事项，预计在未来1年内将技术商业化。我们的路线图还包括于2014-2015年将这一技术用于柔性基材。”公司创始人兼首席执行官Boris Kobri博士表示。他补充道：“Rolith将在国际触控面板暨光学膜展会（“Touch Taiwan 2013”）（展台是N126）和2013年美国印刷电子展览会（展台是AA18）上展出其突破性技术。”

        Rolith 公司运用独有的纳米光刻技术，为家用电子产品、太阳能市场和绿色建筑市场生产高级纳米结构产品。Rolith 由 Boris Kobrin 博士、Mark Brongersma 教授以及 Julian Zegelman 及教授于2008年创立，目前公司位于加州普莱桑顿。公司在纳米光刻、物质沉积和蚀刻方法以及纳米光电子设备领域持有全面的专利组合。Rolith 的战略合作伙伴包括 SUSS MicroTec AG 和 Asahi Glass Company Ltd.。公司当前的投资者包括 Draper Fisher Jurvetson 的附属基金 DFJ VTB Capital Aurora（由 VTB Capital 负责管理），以及 Asahi Glass Group 的附属风投公司 AGC America 。

文章作者：Sunny