创新划片切割面钝化，理想晶延EPD设备——为光伏组件性能升级注入新动力

6月13日，一场科技与绿色能源碰撞的国际盛宴，SNEC第十七届光伏展在上海国家会展中心正式拉开帷幕。理想晶延作为行业薄膜沉积高端装备创新先行者，携公司自主研制的系列镀膜设备产品及技术方案精彩亮相。

此次展会理想晶延会带来哪些重磅产品与技术方案呢?我们将分三期为大家一一揭秘!本期内容，我们重点呈献理想晶延全新量产的侧壁钝化EPD技术与设备。

硅片大尺寸结合激光划片已成为行业主流选择。半片电池封装组件具有更低的封装损失，更低的阴影影响，更低的热斑温度等优势。但电池切割后非钝化侧边引入复合中心，特别是耗尽区复合对电池性能的影响越来越显著，影响电池复合电流密度，引起电池效率损失。

2023年初，理想晶延率先开展电池划片切割面损伤及修复研究，EPD ( Edge Passivation Deposition)半片电池切割面钝化技术取得重大突破，电池划片边缘特性全面优化，显著降低电池边缘复合损失，提升组件抗阴影能力，减少缺陷，稳定提升组件效率。公司侧壁钝化技术得到头部客户的实验认可，30多万片结果验证组件功率稳步提升3.5W以上。2023年底，理想晶延首台量产侧壁钝化EPD设备成功出货，为光伏产业电池提效树立新里程碑，行业头部企业量产组件功率平均提升4W以上，最高可提升超5.9W。

理想晶延EPD设备，采用空间型原子层沉积ALD技术沉积40-70nm氧化铝薄膜，可实现电池切割面良好覆盖，具有表面钝化性能优良，侧边绕镀少，沉积速度快，产能高，量产成本低等优势。

此外，量产型EPD设备可支持离线或在线生产方案，与现有产线及新建产线良好兼容，设备占地面积小，工艺与前后道工序匹配性好，可兼容各种尺寸电池片，是提升电池性能和组件功率的理想设备。

以上就是本期分享内容!下一期我们将走近理想晶延钙钛矿电池系列设备，敬请期待!也欢迎大家前往2024 SNEC 理想晶延展台(NH馆-A330)咨询了解，更多行业一线技术与解决方案等您现场揭秘!