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新格拉斯将在SNEC上展示最新多晶硅生产方案

来源:solarbe 发布时间:2013-04-12 16:02:44
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2013年5月13日,德国新格拉斯科技集团将在SNEC上展示晶硅电池背钝化技术的生产方案(如PERC,发射极钝化和背场钝化)。该方案能在现有的晶硅电池生产线上进行升级,无需使用选择性发射极,通过AIOx/SiNy 背钝化膜来大大提升电池的转换效率, 目前已经达到20.1 %,是全球在大规模生产金属丝网印刷晶硅电池领域得到的最高效率之一。

该集团通过增加额外的三个工艺步骤实现对现有产线的升级。在镀膜前对电池背面用单面抛光设备LINEA II进行湿化抛光。

该集团可提供研发用的一道设备,也可提供多道至10道的大规模生产设备。该集团开发的SINGULAR XP设备是运用PECVD(离子增强化学气相淀蹟)来制作背钝化膜。该设备用ICP(间接等离子法)工艺来提高消耗品的利用率,从而降低成本。该集团正紧密加强与伙伴的合作,使用激光开孔的方法做背面接触。该技术方案整合了工艺步骤到现有的生产线中,使晶硅电池的转换效率提升大约1%左右。

该集团还与哈默尔恩太阳能研究机构(简称ISFH)合作将丝网印刷晶硅电池的转换效率从18.5%增加到20.1%。 这一全新的记录也得到了弗劳恩霍夫光伏校准实验室的独立认证。

德国新格拉斯科技集团介绍:

德国新格拉斯科技集团致力于为高效的生产流程开发创新环保的技术, 不断加强自身的创新力和竞争力。集团将新的生产技术与可持续发展工艺和新材料相结合,使经济长期稳步增长的同时节约资源。

在CD、DVD和蓝光光盘复制设备领域,德国新格拉斯科技集团是全球的市场领导者。作为全球唯一的设备制造商,集团为容量约为100 GB三层蓝光光盘提供先进的制造技术。在太阳能领域,德国新格拉斯科技集团是公认的晶体电池和薄膜电池技术的先进设备及工艺供应商。集团致力于不断提高太阳能电池的效率,并降低生产成本,是您在新能源领域值得信赖的合作伙伴。 在半导体领域,集团重点开发用于生产MRAM存储器和薄膜读写头及其他半导体应用晶片的真空镀膜技术。

此外,集团在真空镀膜技术、自动化和工艺流程以及生产线整合领域也不断开拓新领域。为加强现有业务,集团正研究一些具体的收购机会。真空镀膜技术的进一步应用也是未来的重点发展对象。

欢迎您在2013年5月13-16日的SNEC第七届(2013)国际太阳能产业及光伏工程(上海)展览会暨论坛的E3馆拜访我们的615展台。

索比光伏网 https://news.solarbe.com/201304/12/36864.html

责任编辑:shaochen

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