中国芯迎来利好！南大光电获得首批14/7nm订单，彻底打破美日垄断

众所周知，在芯片的制造过程之中，光刻机是非常重要的，光刻机的精度将会直接决定最后芯片的性能好坏，所以很多人就误以为，在芯片过制造过程之中，只要我们能够解决光刻机的问题，那么其他的问题自然而然也就会迎刃而解。

光刻机不是唯一短板

但其实除了光刻机之外，在其他很多细分领域之中，我们还是存在着短板的，就比如说在光刻胶领域之中，光刻胶会被涂抹到硅片上，按照电路图曝光，形成电路的影印，进而成为芯片电路，遮板最终帮助电路在硅片之中刻蚀出来。

光刻胶在芯片制造过程之中扮演着非常重要的角色，尤其是arf光刻胶，再过生产过程之中更是非常的重要。可偏偏在这一领域之中，我们是存在短短的，我们被垄断了。目前全球半导体材料市场之中最重要的供应国就是日本，在半导体材料领域之中，日本拥有绝对垄断的地位，并且日本企业在全球半导体材料占据市场份额超过50%以上。而在这种光刻胶市场之中，更是处于一家独大的局面。

不过好在目前我们迎来了好消息，7月2日南大光电在互动平台之中曾经表示公司旗下的arf光刻胶产品已经获得了来自国外客户的小批量订单。此次南大光电出口的这批arf光刻胶适用于10 纳米到7纳米，甚至是7纳米以下芯片制程的关键原材料。

南大光电取得突破

其实早在今年5月份，南大光电就曾经表示过，公司自主研发的arf光刻胶已经在55纳米技术节点之中实现了突破。此次南大光电arf光刻胶出口获得了首批订单，对于国产半导体的发展来讲是有着重要意义的。其实目前在半导体市场之中，我们所使用的光刻胶分为g线，i线，krf以及arf四种。

作为光刻机芯片生产的重要原材料，光刻胶伴随着光刻机的改进而不断进行升级，因为想要生产制造出高制程的芯片，感光材料的分辨率是必须要根据电路线框的缩小不断提高的。

就目前情况来讲，arf光刻胶的制造难度是最高的，也就是最高级的。有相关数据显示，国内arf的自给率还不到5%，而g线以及i线的自给率不足20%，不过如今南大光电成功打破国外技术壁垒，打破国外所形成的垄断，生产出了这种高端芯片制成的arf光刻胶，对于我们而言算是迈出了最重要的一步。

未来可期

中国是全球最大的半导体材料需求国，可是能够生产高端制程芯片的厂商却并不在多数。此次南大光电获得国外首批arf光刻胶订单，对于其本身的营收来讲，当然也是一个非常大的进步，此次南大光电打破美国一些日本的垄断，对于国内半导体提升地位来讲，有着非常重要的意义，其光刻胶业务主技术主导权都掌握在自己手中。

南大光电获得了国外客户的订单，再一次证明其质量已经完全符合生产标准。在个人看来，南大光电完成首批订单，对于国产半导体未来的发展来讲，起到了促进的作用，虽然在很多领域之中，我们还没有办法做到完全的自给自足，或者是突破，但相信在各大企业的不断努力之下，我们一定也会迎来更加美好的芯片发展，这也就意味着中国半导体将会成功崛起，而那些嫉妒中国的国家，只能够自食其果。

相信假以时日，中国半导体就会重新辉煌，甚至比我们来时还要更加辉煌。