TOPCon : Fraunhofer ISE在实验室及工业化的进展

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技术总结:

量产TOPCon的结果(中试)效率达到24%以上;

最具竞争力的量产TOPCon解决方案仍不确定;

当前的“通用”工业方法是在n型晶圆的正面形成B发射极的混合解决方案;

仍然存在的挑战:

主要是由于丝网印刷金属化厚的高掺杂多晶硅层是必需的;

PECVD沉积工艺的绕度;

为了与一流的PERC生产线竞争,仍需要在整个工艺方案中节省大量成本。





























 

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26 2020/02

TOPCon : Fraunhofer ISE在实验室及工业化的进展

点击此处下载高清PPT技术总结:量产TOPCon的结果(中试)效率达到24%以上;最具竞争力的量产TOPCon解决方案仍不确定;当前的通用工业方法是在n型晶圆的正面形成B发射极的混合解决方案;仍然存在的挑战:主要是由于丝网印

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